技 术 方 案
深耕半导体刻蚀领域，提供适配工艺需求的材料支持和服务
技术能力
合成石英材料技术
采用先进 CVD 工艺制造合成石英，纯度高达 99.999%，无气泡、低金属杂质，羟基含量低于天然石英，在 Plasma 环境下耐腐蚀性显著提升。
先进 CVD 工艺
制作环柱形石英的先进化学气相沉积工艺，确保材料均匀性和一致性，为半导体刻蚀工艺提供稳定可靠的耗材解决方案。
精密加工工艺
核心团队来自 West Coast Quartz，为 LAM、AMAT、TEL 三大国际半导体刻蚀设备公司提供 OEM 服务，拥有丰富的石英生产制造经验。
WCQ 垂直整合加工技术
垂直整合从原材料到成品的完整加工链条，确保每个环节的品质控制，提供从设计到制造的一站式解决方案。
性能对比数据
合成石英相比天然石英的显著性能优势
+50%
Life time 提升
对比天然石英
99.999%
材料纯度
超高纯度标准
0%
气泡含量
无气泡缺陷
无风险
无 Defect issue
金属杂质含量极低
刻蚀工艺解决方案
针对不同刻蚀工艺的定制化合成石英耗材方案
介质刻蚀解决方案
针对 SiO2、SiN 等介质材料刻蚀工艺，提供高纯度合成石英耗材，确保刻蚀均匀性、一致性和长期工艺稳定性。
应用场景
- ILD 刻蚀
- Contact 刻蚀
- Via 刻蚀
导体刻蚀解决方案
针对 Aluminum、Tungsten 等导体材料刻蚀工艺，优化石英部件设计，延长使用寿命，有效减少设备停机频次，降低维护成本。
应用场景
- Metal 刻蚀
- Plug 刻蚀
- Bonding Pad 刻蚀
硅刻蚀解决方案
针对Silicon、Poly-Si等硅材料刻蚀工艺，提供耐等离子体腐蚀的合成石英耗材，精准适配3D结构刻蚀的严苛要求。
应用场景
- TSV 刻蚀
- FinFET 刻蚀
- 3D NAND 刻蚀